住友精密造半导体晶片清洗用臭氧发生器
住友精密造半导体晶片清洗用臭氧发生器
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住友精密造半导体晶片清洗用臭氧发生器
住友精密被晶片制造商选择的理由
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1987年,公司开发了面向半导体制造工序的高浓度臭氧发生机,引进了多样化的半导体臭氧市场
-干工序(ALD、CVD、灰化等)、湿工序(各种清洗)
-国内外4000台以上的交货数实绩
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在硅晶片清洗领域中占绝大部分的份额
-信越半导体、SUMCO、MEMC、SK siltron等
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基于清洗概念,满足各公司要求规格的广泛产品阵容
-FinalO3dip,Polish后O3single,HF/O3Etch等
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兼顾环境安全性的环保产品
-遵守SEMI/UL各种安全规格、ROHS法规等法令
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通过功能性氧化物实现无氮放电(已申请专利)
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长寿命、高可靠性的放电部推荐5年更换，易于维护、廉价的维护费用
根据工艺线路我们的臭氧发生器有2种类型：
1、干工序(ALD、CVD、灰化等)--住友精密臭氧发生器选型
最高浓度400g/m3（N)〔25.6wt%〕
最大发生量 /1unit 300g/h〔24L/min（N)〕
无氮添加臭氧无氮氧化物对清洗液纯水造成的污染
适用于半导体制造用清洁臭氧
气体耐压0.5MPa
SEN/S2标准 CE NRTL适用
出货数量约1500台MTBF（hr）:75万小时
2、湿工序(各种清洗)--臭氧超纯水发生器选型
高浓度 稳定溶解臭氧（臭氧水）高浓度>120mg/L 大容>120L/min
快速响应、稳定的臭氧水供应Ø溶解臭氧浓度衰减对策；CO2添加（标准）
清洁臭氧水、无氮臭氧水；节省空间和紧凑设计、维护成本低
符合 SEMI/CE标准
根据客户需求和应用量身定制提供定制产品
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